Novoescocia SliMM antibatterico - Profilo sanitario

Profilo sottile a forma di cala con una curva levigata e dimensioni ridotte, che facilita la pulizia di aree difficili ed evita l'accumulo di germi. La tecnologia applicata sulla sua superficie, la protegge da organismi nocivi come muffe, funghi e batteri. La sua installazione senza bisogno di lavoro, lo rende perfetto per lavori di riabilitazione o di riforma. È ideale per installazioni in cui sono richiesti elevati livelli di igiene e pulizia o per abitazioni per uso privato.

Dimensioni

• a = 15,3 mm
• h = 4,5 mm

Applicazioni

Ambito di applicazione di Novoescocia SliMM:

1. Cornici tra muro e bancone della cucina.
2. Perimetri di piatti doccia o vasche da bagno.
3. L'intero pavimento, parete-parete o parete-soffitto si incontra sia in orizzontale che in verticale.

È un prodotto ideale per bagni, cucine, visite mediche, ristoranti, ecc. Il suo design è versatile ed è adatto per case, uffici, edifici pubblici o strutture con severi requisiti di igiene e pulizia.

Controllo del deterioramento microbico

Novoescocia SliMM ha un rivestimento specifico che protegge le sue proprietà iniziali controllando il deterioramento microbico.

La tecnologia applicata al profilo è un composto volatile resistente alle alte temperature. La sua efficacia è prolungata per tutta la sua vita utile e non subisce danni nella sua attività, in quanto non viene eliminata attraverso la pulizia quotidiana.

Novoescocia SliMM impedisce, sulla superficie del profilo, la crescita e la migrazione di batteri, funghi, lieviti e muffe, interferendo con la permeabilità ai gas della membrana (respirazione cellulare). In questo modo, il microrganismo perde rapidamente la capacità di crescere e riprodursi, causando la sua distruzione.

Novoescocia SliMM è efficace contro un gran numero di batteri, tra cui: Legionella neumofilia, Escherichia Coli, Salmonella, Staphylococcos Aureus (MRSA), Listeria Monocytogenes, Pseudomonas Aeruginosa, Streptococcus Faecalis, Vibrio Parahaemolyticus e Enterobacter.